镀膜玻璃生产制作研究
目录
引言 1
一、镀镀膜玻璃的原理及应用 2
二、镀膜玻璃制作过程的选材 2
(一) 喷涂靶与粘附靶的对比实验 2
(二) 4层Uband与6层Uband对比实 5
(三）蚀刻方法的研究与选择 7
三、镀膜玻璃生产制作过程 8
（一）拆箱投片 8
（二）清洗玻璃 8
（三）镀膜操作 .9
1 背板玻璃贴胶带及上架 .9
2卸背板玻璃 10
3喷AS液 10
4玻璃烘烤 11
5揭片插框 11
(四) 玻璃覆膜 12
1玻璃烘烤后清洗投片 12
2接片插框 13
3覆膜包装 13
总结 14
谢辞 15
参考文献 16
引言
21世纪以来，随着国家的飞速发展，镀膜玻璃在许多领域上都得到运用。它通过改变玻璃的光学、电学、机械和化学等方面的性能，从而达到环保、节能、隔声、美观、可再生能源的效果。
当然，为了快速高效的生产出镀膜玻璃，在生产的过程中，需要制定出生产流程和准则，因此我的毕业设计选择了镀膜玻璃的制作过程的设计为课题，详细介绍了镀膜玻璃生产时的全部过程。
一、镀膜玻璃的原理及应用
镀膜玻璃是通过在玻璃表面镀一层或多层金属，合金或金属化合物来改变玻璃的性能。例如，?在玻璃表面镀上一层或多层例如铬、钛或者不锈钢等金属或其化合物组成的薄膜，使产品呈现出丰富的颜色，另外，它对可见光有适当的透射率，对近红外线有较高的反射率，对紫外线有很低的透过率。
随着一系列建筑上的安 *好棒文|www.hbsrm.com +Q: ^3^5`1^9`1^6^0`7^2#
全玻璃和节能法律法规、政策 、规格标准的出台和严格执行, 安全玻璃、中空玻璃和镀膜玻璃等深度加工玻璃正在快速发展。ITO膜透明导电玻璃就是其中的一类产品。它利用人体的电场,当手指触摸时，表面行和列的交叉处感应单元的互电容会产生变化,从而检测出该点位置。在一般情况下，这类产品组要用于液晶显示器件的制造，手机电脑触屏等等。
二、镀膜玻璃制作过程的选材
(一) 喷涂靶与粘附靶的对比实验
镀膜线现用粘附硅靶可靠性较差，功率超过20KW的情况下长期工作会导致硅靶碎裂并脱落，同时缝隙中铟溅射到玻璃表面，导致玻璃不良。而喷涂靶为硅铝靶（5%铝），且致密度低于粘附靶。下面就通过对比喷涂靶与粘附靶的溅射率、n值、k值、均匀性、可靠性等方面来评估是否可以更换喷涂靶。
实验方法
1、相同的玻璃基片上（0.7mm玻璃空气面，并镀9.7nm Tio2），镀相同厚度Sio2（93nm），对比喷涂靶与粘附靶所需要的功率，同时通过对比两反射曲线、透射曲线反推喷涂靶与粘附靶溅镀生成Sio2层折射率n及消光系数k的差异；
2、对比喷涂靶与粘附靶不同功率下电压与电流增加趋势；
3、验证喷涂靶上中下不同位置溅镀生成Sio2膜层厚度均匀性；
4、确认高功率（大于20kw）下，喷涂靶可靠性；
溅射率及n、k值对比，如图2-1、2-2所示：
图2-1喷涂靶与粘附靶的各项参数对比 图2-2 喷涂靶与粘附靶反射透射曲线对比图
在相同的基片（玻璃+9.7nm Tio2）上，分别用喷涂靶和粘附靶在相同条件下镀93nm膜层所需功率为44kw、55kw，喷涂靶溅射率是粘附靶约1.25倍；
喷涂靶和粘附靶分别镀93nm膜层反射曲线和透射曲线基本重合，由此可以确定两种靶溅镀所产生的Sio2膜层n值、k值基本无差异；
电流、电压趋势对比，如图2-3所示：
图2-3 喷涂靶与粘附靶功率、电流、电压趋势图
相同功率下，喷涂靶电压较粘附靶电压略低约5v，电流基本无差异；
可靠性对比，如图2-4、2-5所示：
图2-4 粘附靶功率下打弧不良比率 图2-5 喷涂靶功率下打弧不良比率
粘附靶单靶位超过20kw长期工作的情况下，粘靶所用的铟熔化并从缝隙中溢出，导致打弧，将铟溅镀到玻璃表面，造成不良，且不良比率占总产量10%以上；喷涂靶21kw已连续工作48h，目前尚未因打弧造成产品不良；
喷涂靶高功率下连续工作48h，靶面目前尚未出现明显异常，待继续追踪；
均匀性对比，如图2-6所示：
图2-6 喷涂靶与粘附靶均匀性对比图
以上为相同基片上不同硅靶镀膜后均匀性对比图，考虑到基片本身自point 1到point 6 每点Tio2 厚0.1nm，分析得1#、2#喷涂靶自point 1到point 6 Sio2 累计厚度差为5nm，且1#喷涂靶point 1较point 6厚5nm，2#喷涂靶point 1较point 6 薄5nm；
喷涂靶与粘附靶均存在上下Sio2 镀层不均匀的问题，且两者不均匀度基本相当
结论：
1、喷涂靶与粘附靶溅镀生成Sio2层折射率n及消光系数k基本无差异；
2、喷涂靶工作时，电压、电流无明显异常；
3、喷涂靶上中下不同位置溅镀生成Sio2膜层厚度最大差异约5nm，与粘附靶相当；
4、喷涂靶可靠性较粘附靶好，因试用时间较短，有待继续追踪；
因此生产过程中可采用喷涂靶来生产
(二) 4层Uband与6层Uband对比实验
反射曲线对比，如图2-7所示：
图2-7 4层Uband与6层Uband反射曲线折线图
反射率、Lab值，如图2-8所示：
图2-8 4层Uband与6层Uband反射率、L a b值对比示意图
成本对比，如图2-9所示：
图2-9 4层Uband与6层Uband成本对比示意图
4层U-band镀膜速度折算成0.6m/min时所需功率为660kw，用6层U-band工艺可减少243kw功率，节约成本36%以上
产能对比，如图2-10所示：
图2-10 4层Uband与6层Uband产能对比示意图
周转次数减少为原来的一半，产品产能提升41%
良率对比，如图2-11所示：
图2-11 4层Uband与6层Uband良品率对比示意图
周转次数减少为原来的一半，可提升良率27%以上（假定每次镀膜良率为90%）
总结
4层U-band工艺
优点：层数较少，较易调节
缺点：1、线体改造后依旧不能一次完成镀膜，且靶位排布不利于调试其它工艺
2、周转次数过多，良率下降3、一次周期长，产能不高 4、所需功率较高，浪费成本
6层U-band工艺
优点1、所需功率较低，节约成本36%左右2、周转次数减少，良率提升27%左右
3、一次周期较长，产能提高41%左右4、线体改造后可一次完成镀膜工艺，显著提升良率、提高产能；综合良率可90%以上，每班产能100框左右（按6min每框计算，每班正常连续生产10h）
引言 1
一、镀镀膜玻璃的原理及应用 2
二、镀膜玻璃制作过程的选材 2
(一) 喷涂靶与粘附靶的对比实验 2
(二) 4层Uband与6层Uband对比实 5
(三）蚀刻方法的研究与选择 7
三、镀膜玻璃生产制作过程 8
（一）拆箱投片 8
（二）清洗玻璃 8
（三）镀膜操作 .9
1 背板玻璃贴胶带及上架 .9
2卸背板玻璃 10
3喷AS液 10
4玻璃烘烤 11
5揭片插框 11
(四) 玻璃覆膜 12
1玻璃烘烤后清洗投片 12
2接片插框 13
3覆膜包装 13
总结 14
谢辞 15
参考文献 16
引言
21世纪以来，随着国家的飞速发展，镀膜玻璃在许多领域上都得到运用。它通过改变玻璃的光学、电学、机械和化学等方面的性能，从而达到环保、节能、隔声、美观、可再生能源的效果。
当然，为了快速高效的生产出镀膜玻璃，在生产的过程中，需要制定出生产流程和准则，因此我的毕业设计选择了镀膜玻璃的制作过程的设计为课题，详细介绍了镀膜玻璃生产时的全部过程。
一、镀膜玻璃的原理及应用
镀膜玻璃是通过在玻璃表面镀一层或多层金属，合金或金属化合物来改变玻璃的性能。例如，?在玻璃表面镀上一层或多层例如铬、钛或者不锈钢等金属或其化合物组成的薄膜，使产品呈现出丰富的颜色，另外，它对可见光有适当的透射率，对近红外线有较高的反射率，对紫外线有很低的透过率。
随着一系列建筑上的安 *好棒文|www.hbsrm.com +Q: ^3^5`1^9`1^6^0`7^2#
全玻璃和节能法律法规、政策 、规格标准的出台和严格执行, 安全玻璃、中空玻璃和镀膜玻璃等深度加工玻璃正在快速发展。ITO膜透明导电玻璃就是其中的一类产品。它利用人体的电场,当手指触摸时，表面行和列的交叉处感应单元的互电容会产生变化,从而检测出该点位置。在一般情况下，这类产品组要用于液晶显示器件的制造，手机电脑触屏等等。
二、镀膜玻璃制作过程的选材
(一) 喷涂靶与粘附靶的对比实验
镀膜线现用粘附硅靶可靠性较差，功率超过20KW的情况下长期工作会导致硅靶碎裂并脱落，同时缝隙中铟溅射到玻璃表面，导致玻璃不良。而喷涂靶为硅铝靶（5%铝），且致密度低于粘附靶。下面就通过对比喷涂靶与粘附靶的溅射率、n值、k值、均匀性、可靠性等方面来评估是否可以更换喷涂靶。
实验方法
1、相同的玻璃基片上（0.7mm玻璃空气面，并镀9.7nm Tio2），镀相同厚度Sio2（93nm），对比喷涂靶与粘附靶所需要的功率，同时通过对比两反射曲线、透射曲线反推喷涂靶与粘附靶溅镀生成Sio2层折射率n及消光系数k的差异；
2、对比喷涂靶与粘附靶不同功率下电压与电流增加趋势；
3、验证喷涂靶上中下不同位置溅镀生成Sio2膜层厚度均匀性；
4、确认高功率（大于20kw）下，喷涂靶可靠性；
溅射率及n、k值对比，如图2-1、2-2所示：
图2-1喷涂靶与粘附靶的各项参数对比 图2-2 喷涂靶与粘附靶反射透射曲线对比图
在相同的基片（玻璃+9.7nm Tio2）上，分别用喷涂靶和粘附靶在相同条件下镀93nm膜层所需功率为44kw、55kw，喷涂靶溅射率是粘附靶约1.25倍；
喷涂靶和粘附靶分别镀93nm膜层反射曲线和透射曲线基本重合，由此可以确定两种靶溅镀所产生的Sio2膜层n值、k值基本无差异；
电流、电压趋势对比，如图2-3所示：
图2-3 喷涂靶与粘附靶功率、电流、电压趋势图
相同功率下，喷涂靶电压较粘附靶电压略低约5v，电流基本无差异；
可靠性对比，如图2-4、2-5所示：
图2-4 粘附靶功率下打弧不良比率 图2-5 喷涂靶功率下打弧不良比率
粘附靶单靶位超过20kw长期工作的情况下，粘靶所用的铟熔化并从缝隙中溢出，导致打弧，将铟溅镀到玻璃表面，造成不良，且不良比率占总产量10%以上；喷涂靶21kw已连续工作48h，目前尚未因打弧造成产品不良；
喷涂靶高功率下连续工作48h，靶面目前尚未出现明显异常，待继续追踪；
均匀性对比，如图2-6所示：
图2-6 喷涂靶与粘附靶均匀性对比图
以上为相同基片上不同硅靶镀膜后均匀性对比图，考虑到基片本身自point 1到point 6 每点Tio2 厚0.1nm，分析得1#、2#喷涂靶自point 1到point 6 Sio2 累计厚度差为5nm，且1#喷涂靶point 1较point 6厚5nm，2#喷涂靶point 1较point 6 薄5nm；
喷涂靶与粘附靶均存在上下Sio2 镀层不均匀的问题，且两者不均匀度基本相当
结论：
1、喷涂靶与粘附靶溅镀生成Sio2层折射率n及消光系数k基本无差异；
2、喷涂靶工作时，电压、电流无明显异常；
3、喷涂靶上中下不同位置溅镀生成Sio2膜层厚度最大差异约5nm，与粘附靶相当；
4、喷涂靶可靠性较粘附靶好，因试用时间较短，有待继续追踪；
因此生产过程中可采用喷涂靶来生产
(二) 4层Uband与6层Uband对比实验
反射曲线对比，如图2-7所示：
图2-7 4层Uband与6层Uband反射曲线折线图
反射率、Lab值，如图2-8所示：
图2-8 4层Uband与6层Uband反射率、L a b值对比示意图
成本对比，如图2-9所示：
图2-9 4层Uband与6层Uband成本对比示意图
4层U-band镀膜速度折算成0.6m/min时所需功率为660kw，用6层U-band工艺可减少243kw功率，节约成本36%以上
产能对比，如图2-10所示：
图2-10 4层Uband与6层Uband产能对比示意图
周转次数减少为原来的一半，产品产能提升41%
良率对比，如图2-11所示：
图2-11 4层Uband与6层Uband良品率对比示意图
周转次数减少为原来的一半，可提升良率27%以上（假定每次镀膜良率为90%）
总结
4层U-band工艺
优点：层数较少，较易调节
缺点：1、线体改造后依旧不能一次完成镀膜，且靶位排布不利于调试其它工艺
2、周转次数过多，良率下降3、一次周期长，产能不高 4、所需功率较高，浪费成本
6层U-band工艺
优点1、所需功率较低，节约成本36%左右2、周转次数减少，良率提升27%左右
3、一次周期较长，产能提高41%左右4、线体改造后可一次完成镀膜工艺，显著提升良率、提高产能；综合良率可90%以上，每班产能100框左右（按6min每框计算，每班正常连续生产10h）
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