纯铜/ Si3N4陶瓷表面在含氧化石墨烯水润滑下的摩擦学行为研究

本文采用 Hummers 方法制备氧化石墨烯,并配制成溶液,通过摩擦磨损试验机、ADE 三维形貌表征和扫描电子显微镜测定了摩擦因数和磨损量及观察了磨损形貌。研究了载荷、频率、氧化石

ZnO纳米线/多孔壳的制备及其光电性能研究

采用传统的水热合成法,以乙酸锌,六次甲基四胺以及甲醇为原料在FTO玻璃基底上制备了ZnO纳米线并在其表面生长多孔壳结构。采用扫描电子显微镜(SEM)对所制备的样品进行了形貌表

高度有序ZnO纳米线的表面多孔化设计

为了提高ZnO纳米线的表面积,具有多孔结构的ZnO纳米线阵列被成功制备。在实验过程中,ZnO纳米线阵列首先沉积在导电玻璃基片上,然后进行腐蚀处理。实验中发现腐蚀只发生在纳米线

WO3纳米结构的可控制备及其应用研究

在半导体纳米材料中,纳米三氧化钨因其优异的物理及化学性质,人们将它广泛应用于气敏、电致变色、光致变色、有机催化及光催化等众多领域。本文主要阐述了纳米三氧化钨的化学

分级多孔氧化锌纳米材料制备及其光电性能研究

ZnO的禁带宽度是3.37eV,是典型的直接带隙宽禁带半导体材料。因此在太阳能电池领域具有很好的应用价值和研究潜力。实验中采用水热法成功制备了氧化锌纳米结构。采用X射线衍射仪、

Al/Y/Si 涂层的制备及表征

本文采用含 10 wt% Y 和 10 wt% Si 的复合 Al/Y/Si 靶材,通过双辉等离子渗金属技术在 316L 不锈钢表面溅射 Al/Y/Si 涂层,并在 580 oC 进行等离子氧化。采用扫描电镜、X 射线衍射仪、自动划痕仪

Al/Y/Si涂层的制备及表征

本文采用含 10 wt% Y 和 10 wt% Si 的复合 Al/Y/Si 靶材,通过双辉等离子渗金属技术在 316L 不锈钢表面溅射 Al/Y/Si 涂层,并在 580 oC 进行等离子氧化。采用扫描电镜、X 射线衍射仪、自动划痕仪

Al/Y/Si涂层的制备及表征

本文采用含 10 wt% Y 和 10 wt% Si 的复合 Al/Y/Si 靶材,通过双辉等离子渗金属技术在 316L 不锈钢表面溅射 Al/Y/Si 涂层,并在 580 oC 进行等离子氧化。采 用扫描电镜、X 射线衍射仪、自动划痕

6063铝合金时效制度的研究

6063铝合金(铝-镁-硅合金)显示出中等强度,优良的成型性,良好的耐腐蚀性,被广泛应用于生产产品和汽车的车身面板。本文以工业经常使用的6063铝合金为研究对象,利用对XRD,万能

Ti6Al4V 钛合金/Si3N4陶瓷表面在摩擦学行为研究

本文采用 Hummers 法制备了氧化石墨烯,通过 X 射线衍射仪、透射电子显微镜分析表征氧化石墨烯的相组成和组织形貌。然后,将其制成悬浮液,并通过摩擦磨损实验机研究其对 Ti6Al4V/S

纯钛叠层轧制的织构组织研究

本文以一种工业纯钛TA16为初始研究对象,运用X射线衍射、金相显微镜、透射电子显微镜、等先进表征技术,对TA16板材在轧制变形量10%和50%情况下的织构组织进行了研究。结果表明,不

好棒文