电弧离子镀tialn硬质薄膜的制备及性能研究(附件)【字数：14573】

摘 要摘 要TiAlN薄膜具有高硬度、高氧化温度、热硬性较好、强附着力、摩擦系数小以及导热率低等优良特性。由于多弧离子镀的沉积效率高，所以其成为制备TiAlN薄膜最常用的方法。本论文选题的目的是通过已确定沉积参数的多弧离子镀TiAlN薄膜来研究其力学、电化学以及摩擦磨损等性能，包括利用球磨仪、扫描电子显微镜（SEM）、纳米压痕仪、电化学工作站、摩擦磨损试验机等分析设备对涂层的形貌、粗糙度、结构性能、耐蚀性能进行分析。并且，在此基础上，对渗氮基体上所沉积镀层进行相同条件下的测试分析，观察渗氮工艺对TiAlN镀层性能的影响。结果表明，渗氮工艺对薄膜的膜基附着力有较大的提升，在电化学方面，渗氮工艺并未对TiAlN薄膜的耐蚀性能有所提升，对于其摩擦磨损性能，渗氮工艺可以提高TiAlN薄膜的抗磨损性。关键字镀膜;多弧离子镀;TiAlN;摩擦磨损;电化学

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